非图形化晶圆检测

外延晶圆检测的理想解决方案

随着需要在制造流程更早阶段发现缺陷的需求日益迫切,非图形化晶圆检测正变得愈发关键。随着关键尺寸的持续微缩,发现这些缺陷的难度也日益增加。非图形化晶圆检测旨在检测未处理或裸硅片上的缺陷。

该检测面临诸多挑战,包括精确的缺陷位置报告、晶圆翘曲监测、3D缺陷识别、浅层缺陷检测、晶圆表面质量监测以及全自动数据采集。Camtek的解决方案有效应对所有这些挑战,通过单一设备提供完整解决方案,具备基于分bin代码的缺陷扫描与分析、基于2D扫描的3D问题分析以及良率预测能力。结合全速生产下的高吞吐量,我们的解决方案是外延晶圆检测的理想之选。

核心能力

  • 基于特征的缺陷分类
  • 晶圆边缘对准
  • 用于翘曲测量的专用晶圆放置共聚焦传感器
  • 高通量下检测形貌偏差的独特光学技术
  • 专用光学系统,结合图像处理实现快速滑移线检测
  • 专用算法结合滑移线光学技术,实现快速晶圆表面质量检测

核心技术

  • 表面形貌传感器
  • 用于滑移线检测的新型光通道
  • 良率预测
  • 基于分bin/芯片的灵活分析能力
  • 基于深度学习的分类技术

产品

Eagle G5

专为实现无与伦比的扫描速度和生产效率而设计

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Eagleᵀ-i

高效精准缺陷检测

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Eagleᵀ-i Plus

S卓越缺陷检测性能

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MicroProf® AP

灵活搭配多传感器的量测机台,适用于先进封装工序

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MicroProf® DI

高精度光学表面检测,专为半导体应用打造

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MicroProf® FE

全自动前端制程量测系统

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MicroProf® FS

面向MEMS与晶圆厂的多传感器技术与混合测量方案

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MicroProf® MHU

专为半导体、MEMS与LED行业设计的双手臂式机器人物料传输系统

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MicroProf® TL

配备可编程温控的光学量测系统

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MicroProf® 200

通用型独立式量测工作站

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MicroProf® 300

高效能的量测机台,适用于质量管控、研发及制造各工序

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